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Detailbild zu :  ESCA/AES-Multitechnque System zur Oberflächenanalyse

ESCA/AES-Multitechnque System zur Oberflächenanalyse

G16

Universitätsplatz 2

39106 Magdeburg

Tel.+49 391 6758674

Fax:+49 391 6748108

Gerätebeschreibung
Die Multitechnik-Anlage der amerikanischen Firma Perkin Elmer (jetzt Physical Electronics) dient zur chemischen Charakterisierung von metallischen Oberflächen bis zu Tiefen von einigen Nanometern. Die angewandten Techniken sind Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS oder ESCA) sowie Auger-Elektronenspektroskopie (AES). Beide unterscheiden sich hinsichtlich der Anregungsquelle und der Art der energetisch spektroskopierten Elektronen. Je nach Zielsetzung erfolgt die Auswahl der einen oder anderen Technik.
Wird besonderer Wert auf die chemische Zusammensetzung lateral über die Oberfläche bis hinunter in den Submikrometerbereich gelegt und reichen halbquantitative Konzentrationsangaben aus, ist AES zu bevorzugen. Kann über eine größere Probenoberfläche von minimal 800 µm integriert werden, sind die Ergebnisse bzgl. quantitativer chemischer Konzentrationen genauer und man erhält zusätzlich Informationen über die Bindungskonfiguration der betrachteten Atomart durch die "chemical Shift" des entsprechenden Photoelektronen-Peaks.

Um Oberflächenkontaminationen auf frisch eingeschleusten Probenoberflächen zu entfernen oder auch chemische Konzentrationen unterhalb der obersten Atomlagen zu erhalten (Tiefenprofile), wird die Oberfläche mittels Argonionen von einer Ionenquelle abgesputtert. Durch Messung der Sekundär- sowie rückgestreuten Elektronen können weiterhin Aussagen zur Probentopographie (Rasterelektronenmikroskopie) sowie indirekt zur qualitativen chemischen Zusammensetzung der Oberfläche (BSE) getroffen werden. Die hardwaremäßige Gerätesteuerung und Ergebnisauswertung erfolgt über entsprechend konfigurierten Schnittstellen von einem PC mittels spezieller Software.

Projekte

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