Reinigungsprozesse an Wafern aus ALD - Prozessen

Das Projekt beinhaltet die Zielsetzung, verschiedene Wafer-Reinigungsansätze auf ihre Eignung als Reinigungsschritt unmittelbar vor einem Atomlagenabscheidungsprozess hin zu untersuchen. Zu den in Betracht gezogenen Verfahren gehören die Standardreinigungen SC-1 und SC-2, die Caro´sche Reinigung und die von uns entwickelten Gas/Nass-Reinigungsverfahren, welche als Ersatz für die nasschemischen Standardreinigungen unter Benutzung der Gase Ammoniak/Ozon und Chlorwasser-stoff/Ozon dienen können. Die gereinigten Wafer werden bezüglich der Reinigungseffizienz der einzelnen Verfahren hinsichtlich der Dichten kationischer und partikulärer Kontaminanten untersucht, ehe mittels Atomlagenabscheidung ausgewählte Oxide von Elementen der Gruppen III und V des Periodensystems aufgebracht werden.