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Messsystem zur online-Überwachung von Megasonic Reinigungsdüsen und Verfahrensentwicklung eines Messsystems zur Charakterisierung von Megasonic Systemen (PRO INNO II)
Projektbearbeiter:
M. Silinskas
Finanzierung:
Bund;
Im Rahmen der Forschungsarbeiten soll in enger Zusammenarbeit mit einem industrieellen Partner ein Reinigungssystem für die Halbleiterindustrie entwickelt werden, das den zukünftigen hohen Anforderungen an die Oberflächenreinigung von Silizium-Prozeßscheiben
  • höhere Reinigungswirkung
  • Abreinigung von Partikeln kleiner 0,1 µm
  • kürzere Prozesszeiten
gerecht wird. Dazu wird ein gesamtes Reinigungssystem entwickelt, in dem die Einzelkomponenten aus ganzheitlicher Sicht optimiert werden.

Schlagworte

Halbleitertechnologie, Reinigung, Reinigungseffiziens, Silizium
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