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Versuche zur AlN Beschichtung auf Silizium in 3 Dimensionen
Finanzierung:
Industrie;
Metallorganische Gasphasendeposition (MOCVD) von Aluminium-Nitrid (AlN) auf dreidimensionalen Siliziumoberflächen. Dazu wird ein neues Abscheidekonzept Entwickelt um rissfreie Schichten zu erzielen.
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