Entwicklung einer maskenlosen anisotropen Plasmatexturierung von Siliziumnitrid (SiN) für die industrielle Massenfertigung in der Photovoltaik (Black-SiN)
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Finanzierung:
![EUROPÄISCHE UNION - EFRE EUROPÄISCHE UNION - EFRE - Europäischer Fonds für regionale Entwicklung](/static/img/EFRE_rgb_print_320x55.jpg?v=0a190b6b3622eff8393d35baacde326d)
- Rezeptentwicklung der Black-SiN Textur
- Mikrostrukturelle Untersuchung der Black-SiN Textur
- Bestimmung der Reaktionskinetik und der Korrelation zwischen der Textur und deren optischer Eigenschaften
- Optimierung der optoelektrischen Eigenschaften
- FDTD-Simulationen der optimalen Morphologie
- Entwicklung eines Gerätekonzeptes
Schlagworte
Photovoltaik, Plasmatexturierung von Siliziumnitrid, SiN
Kontakt
Dr. Sylke Meyer
Fraunhofer-Center für Silizium-Photovoltaik CSP
Otto-Eißfeldt-Straße 12
06120
Halle (Saale)
Tel.:+49 345 55895116
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