Das Forschungsportal Sachsen-Anhalt verwendet zur Bereitstellung einiger Funktionen Cookies.
Mit der Verwendung dieser Seite erklären Sie sich damit einverstanden. Weitere Informationen
Das Forschungsportal Sachsen-Anhalt verwendet zur Bereitstellung einiger Funktionen Cookies.
Mit der Verwendung dieser Seite erklären Sie sich damit einverstanden. Weitere Informationen
Sie verwenden einen sehr veralteten Browser und können Funktionen dieser Seite nur sehr eingeschränkt nutzen. Bitte aktualisieren Sie Ihren Browser. http://www.browser-update.org/de/update.html
Mittels Atomlagenabscheidung (ALD) hergestellte dünne Schichten aus Antimonoxid, Boroxid und Phosphoroxid werden zur Vorbelegung und Dotierung beliebig dreidimensionaler Strukturen, insbesondere von Nanodrähten, in modernsten CMOS-Silizium- und Germaniumtechnologien mit Strukturgrößen unter 10 Nanometern verwendet. Im Rahmen des Projektes werden Atomlagenabscheidung, Aktivierung und Eintreiben der Dotierstoffe, sowie die erzielten Dotierprofile mit pn-Übergangstiefen im Bereich um 5 Nanometer untersucht. Dafür stehen in einem Reinraumlabor sowohl vom Lehrstuhl entwickelte und gebaute ALD-Anlagen als auch eine kommerzielle ALD-Anlage des Herstellers Sentech Instruments GmbH mit einer ICP-Plasmaquelle für Experimente zur Verfügung.
Sie verwenden einen sehr veralteten Browser und können Funktionen dieser Seite nur sehr eingeschränkt nutzen. Bitte aktualisieren Sie Ihren Browser. http://www.browser-update.org/de/update.html
Mittels Atomlagenabscheidung (ALD) hergestellte dünne Schichten aus Antimonoxid, Boroxid und Phosphoroxid werden zur Vorbelegung und Dotierung beliebig dreidimensionaler Strukturen, insbesondere von Nanodrähten, in modernsten CMOS-Silizium- und Germaniumtechnologien mit Strukturgrößen unter 10 Nanometern verwendet. Im Rahmen des Projektes werden Atomlagenabscheidung, Aktivierung und Eintreiben der Dotierstoffe, sowie die erzielten Dotierprofile mit pn-Übergangstiefen im Bereich um 5 Nanometer untersucht. Dafür stehen in einem Reinraumlabor sowohl vom Lehrstuhl entwickelte und gebaute ALD-Anlagen als auch eine kommerzielle ALD-Anlage des Herstellers Sentech Instruments GmbH mit einer ICP-Plasmaquelle für Experimente zur Verfügung.