IFOX (Interfacing Oxides)
Projektleiter:
Projekthomepage:
Finanzierung:
EU - FP7;
Forschergruppen:

Das Ziel von IFOX besteht darin, neuartige elektronische und magnetische Funktionalitäten in komplexen Übergangsmetalloxid-Heterostrukturen (mit dem Schwerpunkt auf Grenzflächen) zu erforschen, zu schaffen und zu kontrollieren, um die Materialplattform für neuartige 'More than Moore? (MtM) und 'beyond CMOS' Elektronik zu entwickeln, VLSI integrierbar und mit Leistung und Funktionalität weit über den neuesten Stand der Technik hinaus.
Zu diesem Zweck wird es:
Die Untersuchungen umfassen sowohl ferroelektrische und ferromagnetische Oxide als auch künstliche, multiferroische Heterostrukturen (abgeschieden auf großflächigen Siliziumsubstraten) als auch als abschließendes Ergebnis ein Konzept für multifunktionale magneto-elektronische Bauelemente, die von elektrischen und magnetischen Feldern und letztendlich von extremen kurzen Lichtpulsen kontrolliert werden.
Das Konsortium von Spitzengruppen aus den Bereichen Theorie, Oxidabscheidung, Lithografie, Geräteherstellung und verschiedenen Charakterisierungstechniken wird es ermöglichen volle Kontrolle über alle Grenzflächen-Eigenschaften zu erhalten, die das physikalische Verhalten von Oxid-Nano- und Heterostrukturen bestimmen. Die Ziele von IFOX werden durch die Anforderungen einer großen Automobilfirma (FIAT) bestimmt, die vorhat, Oxide in elektronischen Sensoren für MtM und Automobilanwendungen zu verwenden. Darüber hinaus wird IFOX durch zwei KMUs mit dem notwendigen Know-How und der Infrastruktur für das epitaktische Oxidwachstum auf Si dabei unterstützt, die wissenschaftlichen Ergebnisse auf die Industrie zu übertragen.
Zu diesem Zweck wird es:
- eine theoretische Grundlage schaffen, um die vielversprechendsten Materialien/Heterostrukturen zu identifizieren und die neuen Funktionalitäten zu verstehen, die für elektronische Anwendungen wichtig sind
- Oxidfilme auf kommerziellen Substraten mit einer Qualität abscheiden, die mit der des hochmodernen Halbleiter-Wachstums vergleichbar ist
- ihre Strukturierungs- und Verarbeitungsbedingungen innerhalb der Rahmenbedingungen von gegenwärtigen Herstellungstechnologien entwickeln
- ihre strukturellen, elektronischen und magnetischen Eigenschaften charakterisieren, um Konzepte für neuartige ladungs- und/oder spinbasierende Bauelemente in den Bereichen Speicher, Logik und Sensoranwendungen zu liefern
Die Untersuchungen umfassen sowohl ferroelektrische und ferromagnetische Oxide als auch künstliche, multiferroische Heterostrukturen (abgeschieden auf großflächigen Siliziumsubstraten) als auch als abschließendes Ergebnis ein Konzept für multifunktionale magneto-elektronische Bauelemente, die von elektrischen und magnetischen Feldern und letztendlich von extremen kurzen Lichtpulsen kontrolliert werden.
Das Konsortium von Spitzengruppen aus den Bereichen Theorie, Oxidabscheidung, Lithografie, Geräteherstellung und verschiedenen Charakterisierungstechniken wird es ermöglichen volle Kontrolle über alle Grenzflächen-Eigenschaften zu erhalten, die das physikalische Verhalten von Oxid-Nano- und Heterostrukturen bestimmen. Die Ziele von IFOX werden durch die Anforderungen einer großen Automobilfirma (FIAT) bestimmt, die vorhat, Oxide in elektronischen Sensoren für MtM und Automobilanwendungen zu verwenden. Darüber hinaus wird IFOX durch zwei KMUs mit dem notwendigen Know-How und der Infrastruktur für das epitaktische Oxidwachstum auf Si dabei unterstützt, die wissenschaftlichen Ergebnisse auf die Industrie zu übertragen.
Anmerkungen
Das Projekt IFOX wird von der Universität Nijmegen administriert, die wissenschaftliche Koordination liegt bei der Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg
Schlagworte
Magnetoelektronik, Mikroelektronik, Nanoelektronik, Oxide, Spintronik
Kooperationen im Projekt
- Prof. Theo Rasing, Spectroscopy of Solids and Interfaces, Radboud University Nijmegen (NL)
- Prof. Dr. Mathias Kläui, nanomagnetism, Institute of Condensed Matter Physics, École Polytechnique Fédérale de Lausanne (CH)
- Prof. Dr. ing. Dave H.A. Blank, Inorganic Materials Science, Universiteit Twente (NL)
- Prof. Dr. Dietrich Hesse, Experimental Department II, Max Planck Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften E.V. (DE)
- Prof. John Chapman, Faculty of Physical Sciences, University of Glasgow (UK)
- Daniele Pullini, Micro and Nanotechnology, Centro Ricerche FIAT SCPA (IT)
- Prof. Gustaaf Van Tendeloo, EMAT, NANO Centre of Excellence, University of Antwerp (BE)
- Dr. Frithjof Nolting, Swiss Light Source, Paul Scherrer Institut, Villigen (CH)
- Dr. Lucian Pintilie, National Institute of Materials Physics, Bucharest (RO)
- Dr. Alek Dediu, ISMN-CNR, Institute for Nanostructured Materials, CNR Bologna (IT)
- Dr. Giancarlo Panacione, TASC-CNR, Advanced technology and nanoscience, CNR Trieste (IT)
- Prof. Rainer Waser, Institut für Festkörperforschung (IFF), Forschungszentrum Jülich GmbH (DE)
- Prof. Stefan Blügel, Institut für Festkörperforschung (IFF), Forschungszentrum Jülich GmbH (DE)
- Prof. Guus Rijnders, Twente Solid State Technology B.V. Enschede (NL)
- Prof. Dr. Konrad Samwer, I. Physikalisches Institut, Georg August Universität Göttingen (DE)
- Prof. J. M. D. Coey, Centre for Research on Adaptive Nanostructures and Nanodevices, Trinity College Dublin (IE)
- Prof. Stefano Sanvito, Centre for Research on Adaptive Nanostructures and Nanodevices, Trinity College Dublin (IE)
- Prof. Carlo Taliani, Organic Spintronics, Srl Bologna (IT)
Kontakt

Prof. Dr. habil. Georg J. Schmidt
Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg
Naturwissenschaftliche Fakultät II
Von-Danckelmann-Platz 3
06120
Halle (Saale)
Tel.:+49 345 5525320
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