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Atomic layer deposition of Al2O3 and TiO2 multilayers for applications as bandpass filters and antireflection coatings
Szeghalmi, Adriana ; Helgert, Michael ; Brunner, Robert ; Heyroth, Frank ; Gösele, Ulrich ; Knez, Mato
Applied optics. - Washington, DC : Optical Soc. of America, Bd. 48.2009, 9, S. 1727-1732
Bibliographie: Artikel in Zeitschrift Link 22 Zitationen
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