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Detailbild zu :  Reinraum Halbleitertechnologie (Lehrstuhl Halbleitertechnologie)

Reinraum Halbleitertechnologie (Lehrstuhl Halbleitertechnologie)

G 10

Universitätsplatz 2

39106 Magdeburg

Tel.+49 391 6758398

Fax:+49 391 6712103

Gerätebeschreibung
Seit 2001 verfügt der Lehrstuhl Halbleitertechnologie über einen 120m² großen Reinstraum der Klasse 4 (ISO 14644-1) für Siliziumtechnologie. Zum Reinstraum gehört ein 200m² großer Grauraumbereich ohne Laminarflow der Klasse 6 für Vakuumanlagen und ergänzende Prozesstechnik. Die Mitarbeiter des Reinraums können vom Einzelprozessschritt bis zum fertigen Bauelement mit Hilfe der CMOS Prototypenlinie alle Arbeitsschritte der Bauelemente- und Prozessentwicklung durchführen. Dabei sind bei integrierten Bauelementen Strukturbreiten von 2µm, bei einzelnen Mikro- und Nanostrukturen von bis zu 80nm möglich.

Ausrüstung

-Physical Vapor Deposition (PVD) Anlage für Kupfer, Chrom und Gold
-LPCVD zur Erzeugung von Siliziumnitridschichten und Polysiliziumschichten für Gateelektroden und Passivierungen
-Einzelscheiben Reinigungsanlage VERTEQ Goldfinger für
Reaktivgas-/Nassreinigung
-Lithographie mit Maskaligner und Laserdirektschreiber für Rapid Prototyping
-Nasschemiebänke für die Durchführung von Reinigungs- und Ätzprozessen
-Atom Absorbtions Spektrometer (AAS) zur Analyse metallischer Kontaminationen auf der Waferoberfläche
-Oxidations- und Diffusionsofen für feuchte und trockene Oxidation
verschiedener Oxidschichten
-Ellipsometer, Interferometer und Stufenhöhenmessgerät zur
Schichtdickenmessung
-Mikroskope mit Längenmeßeinrichtung
-Rasterlektronenmikroskop mit EDX-Analyse und Raith Elphy Elektronenstrahllithografie
-Partikelmeßgerät zur Feststellung der Größenverteilung und räumlichen
-Verteilung von Partikeln auf Siliziumoberflächen
-MOCVD- und ALD- Anlagen

Unter dem folgendem Link können Sie einen Einblick in den Reinraum Halbleitertechnologie erhalten.

http://www.campustv.ovgu.de/videos_der-reinraum-am-lehrstuhl-fuer-halbleitertechnologie_68.html

Projekte

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